POSS-P(NIPAm-co-NBDAE)的可控合成及其荧光响应行为

摘要：

采用3-苄基三硫代碳酸酯基丙酸(BSPA)对氨丙基七异丁基笼型倍半硅氧烷(POSS-NH2)进行修饰,制备了POSS杂化RAFT试剂(POSS-BSPA);以4-氯-7-硝基-2,1,3-苯并噁二唑(NBDCl)为母体染料,合成4-(2-丙烯酸胺乙基酯)-7-硝基-2,1,3-苯并噁唑(NBDAE)荧光单体;以POSS-BSPA引发N-异丙基丙烯酰胺(NIPAm)和NBDAE进行可逆加成-断裂链转移(RAFT)聚合,合成了一种POSS杂化荧光温敏大分子POSS-P(NIPAm-co-NBDAE).采用FTIR、1 H NMR、GPC对反应过程和产物结构进行了表征.采用PL光谱分别研究了在水和四氢呋喃(THF)中环境温度与F-对它的荧光响应行为,并探讨了相关机理.结果表明,温度对其在水溶液中的荧光发射具有明显影响,在THF中其荧光发射几乎不受温度影响;F-对其在水中的荧光发射影响相对较小,而对其在THF中的荧光猝灭十分显著.

关键词：POSS、可逆加成-断裂链转移(RAFT)、温敏、F-检测、N-异丙基丙烯酰胺

所属期刊栏目：40

分类号：O631.2(高分子化学（高聚物）)

资助基金：合肥工业大学创新基金2017CXCY198

在线出版日期：2019-05-28（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：440-446