磁控溅射制备本征ZnO/Ag/ZnO透明导电薄膜的性质研究

摘要：

室温下采用射频磁控溅射氧化锌(ZnO)粉末靶、银(Ag)靶,在玻璃衬底上制备ZnO/Ag/ZnO透明导电薄膜.首先,ZnO厚度为30 nm时,改变Ag厚度制备3层透明导电薄膜,研究Ag层厚度及膜层间配比对光电性能的影响;其次,按ZnO:Ag厚度比为30:11比例制备不同厚度的3层透明导电薄膜,研究多层厚度对薄膜光电性能的影响.结果表明:Ag厚度为8 nm及11 nm的ZnO/Ag/ZnO表面相对平整,结晶程度较好,在可见光范围内最高透过率达到90％及86％,并且方块电阻为6Ω/□及3.20Ω/□,具有优良的光电性;当按配比制备ZnO/Ag/ZnO 3层膜时,增加ZnO厚度对Ag层的增透作用反而减弱,同时增加Ag层厚度也会降低3层薄膜的整体光学性.

关键词：透明导电薄膜、射频磁控溅射、粉末靶、镀膜

所属期刊栏目：39

分类号：O484.4;TM24(固体物理学)

资助基金：国家自然科学基金51672119;辽宁省教育厅校企成果转化项目601009817-01;辽宁省教育厅海洋装备用金属材料及其应用国家重点实验室-辽宁科技大学联合基金SKLMEA-USTL-201709

在线出版日期：2018-09-20（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共8页

页码：1272-1279