纳米尺度HfO2薄膜不同厚度对光学性质的影响

摘要：

HfO2薄膜厚度达到纳米级别时,其光学性质会发生变化.光谱椭偏仪能够同时得到纳米尺度薄膜的厚度和光学常数,但是由于测量参数的关联性,光学常数的结果不准确可靠.本文采用溯源至SI单位的掠入射X射线反射技术对纳米尺度HfO2薄膜厚度进行准确测量,再以该量值为准确薄膜厚度参考值.利用光谱椭偏仪测量HfO2膜厚和光学常数时,参考膜厚量值,从而得到对应相关膜厚的薄膜准确光学参数.研究了以Al2O3作为薄膜缓冲层的名义值厚度分别为2,5,10 nm的超薄HfO2薄膜厚度对光学性质的影响.实验结果表明,随着HfO2薄膜厚度的增加,折射率也逐渐增大,在激光波长632.8 nm下其折射率分别为1.901,2.042,2.121,并且接近于体材料,而消光系数始终为0,表明纳米尺度HfO2薄膜在较宽的光谱范围内具有较好的增透作用,对光没有吸收.

关键词：纳米尺度HfO2薄膜、掠入射X射线反射技术、光谱椭偏、厚度和光学表征

所属期刊栏目：39

分类号：O434.19;TB39(光学)

资助基金：国家重点研发计划"国家质量基础的共性技术研究与应用"重点专项2016YFF0204301资助 Supported by National Key Research and Development Program of China"Research and Application of National Quality Infrastruc-ture"Project/Subject2016YFF0204301

在线出版日期：2018-06-13（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共8页

页码：375-382