电子束退火法制备Li-N共掺杂多晶ZnO薄膜
为研究电子束退火对Li-N共掺杂ZnO薄膜性能的影响,首先利用溶胶-凝胶旋涂法在p型Si(111)衬底上制备Li-N共掺杂的ZnO前驱膜,然后用电子束对前驱膜进行退火.退火时,电子束加速电压10 kV,退火时间5 min,聚焦束流123 mA,束流为0.7~1.9 mA,最后得到Li-N共掺杂的ZnO薄膜.XRD谱分析表明,当束流高于1.5 mA之后,薄膜为六方ZnO和立方ZnO的混合多晶薄膜,且有金属Zn生成,导致薄膜有较强的绿光发射.SEM图片分析显示,薄膜的晶粒尺寸随束流增加而增大,当束流高于1.5 mA后,晶粒尺寸变化不大,约为60 nm.光致发光(PL)谱和激光拉曼谱的分析结果证实Li、N元素已掺入ZnO晶格中,PL谱中观察到Li元素掺杂引起的紫光发射,拉曼散射光谱中观察到N替代O位的缺陷振动模式.
电子束退火、掺杂、多晶、ZnO薄膜
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O649(物理化学（理论化学）、化学物理学)
国家自然科学基金51472239,51307162资助项目 Supported by National Natural Science Foundation of China51472239,51307162
2018-06-13（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
共8页
293-299,300
