Zn、Cu 共掺杂 TiO2∶SiO2薄膜材料的光学性能研究

摘要：

用溶胶-凝胶法制得 Zn、Cu 共掺杂的 TiO2∶ SiO2凝胶,旋转法于玻璃基底涂膜,制得 Zn、Cu 共掺杂的TiO2∶ SiO2薄膜,探讨了煅烧温度、煅烧时间及掺杂比例对其结构、形貌和性能的影响。采用 XRD、FESEM、FT-IR 等测试技术对薄膜进行表征,并考察了其对甲基橙的光催化降解性能。 XRD 测试结果显示：薄膜样品的晶型为锐钛矿型,结晶良好。 SEM 谱图显示：薄膜微粒粒径小,分布均匀,表面平整、致密且无明显裂痕；紫外-可见光谱(UV-Vis)表明：Zn、Cu 共掺杂的 TiO2∶ SiO2薄膜在紫外区和可见光区的吸光度明显增加,提高了对光的利用率；光催化性能测试表明：与纯相 TiO2对比,Zn、Cu 共掺杂的 TiO2∶ SiO2薄膜对甲基橙的光催化降解率有较大提高,在600℃下焙烧2 h 的掺杂的量比为 n(Ti)∶ n(Si)∶ n(Zn)∶ n(Cu)=3∶2∶1.5∶4的薄膜样品光催化降解率最高。

关键词：溶胶-凝胶、TiO2∶SiO2、共掺杂、光催化、薄膜

所属期刊栏目：38

分类号：O644.1;O484.4(物理化学（理论化学）、化学物理学)

在线出版日期：2017-03-09（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：27-31