1310nm垂直腔面发射激光器芯片制备技术的研究进展

摘要：

垂直腔面发射激光器(VCSELs)在光纤通讯领域有着广泛的应用前景,国际上对VCSELs需求逐年增加,而国内目前VCSELs的产业化尚属空白.本文从两方面着手综述1 310 nm VCSELs制备方法.将可以制备出1 310 nm VCSELs的4种材料,从理论、制备、量产时需要考虑的因素等方面进行较为全面的汇总分析;同时对两种主流的制备方法从工艺步骤分析其在产业化方面的优势与不足.

关键词：垂直腔面发射激光器、1310nm、产业化

所属期刊栏目：37

分类号：TN248.4(光电子技术、激光技术)

资助基金：“863”国家高技术研究发展计划2015AA016902

在线出版日期：2016-08-25（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：809-815