化学腐蚀法制备荧光多孔硅及对Ag+的检测

摘要：

采用简便的化学腐蚀法在45℃下制备了橘红色荧光多孔硅( PS),通过扫描电镜( SEM)、红外光谱(FT-IR)和比表面积(BET)对PS的结构进行了表征。研究发现,Ag+能在PS上发生氧化沉积而猝灭荧光。基于此,建立了一种快速、灵敏检测Ag+的新方法。在优化实验条件下,Ag+浓度与PS的荧光强度在4.5×10-8~6.6×10-7 mol／L范围内呈良好的线性关系,检测限为2.2×10-8 mol／L,线性相关系数为0.9914。该方法用于水样中Ag+的检测,结果满意。

关键词：化学腐蚀法、多孔硅、荧光、Ag+

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分类号：O482.31(固体物理学)

资助基金：国家自然科学基金21275104;四川省教育厅重点项目基金14ZA0027;四川师范大学大精设备开放基金2015

在线出版日期：2016-07-13（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：662-668