席夫碱修饰的α-氰基二苯乙烯荧光液晶材料的合成与发光性质

摘要：

为获得高效的发光液晶材料,将席夫碱结构单元引入α-氰基二苯乙烯体系,合成了(Z)-2-(4-((E)-4-丁氧基-2-羟基苯乙烯氨基)苯基)-3-(4-丁氧基苯基)丙烯腈( BHPA)。通过紫外-可见吸收光谱和荧光光谱,研究其聚集诱导发光增强( AIEE)性质；利用热重分析( TGA)、差示量热扫描( DSC)、偏光显微镜( POM)研究其热力学性质和液晶性质。结果表明,BHPA是具有AIEE特性的发光液晶材料,取向的BHPA膜具有发光各向异性,其线偏振度约为0.41。

关键词：席夫碱、AIEE、发光液晶、偏振发光

所属期刊栏目：37

分类号：O63(高分子化学（高聚物）)

资助基金：国家自然科学基金51432001;安徽省教育厅重点项目KJ2014ZD02

在线出版日期：2016-06-03（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：532-537