原子层沉积AlOx薄膜对单晶硅太阳能电池钝化机制的影响

摘要：

采用原子层沉积设备在p型单晶制绒硅上制备了不同厚度的AlOx薄膜.通过研究AlOx薄膜厚度对样品的反射率、少数载流子寿命以及电容-电压特性的影响,发现沉积32 nm的AlOx薄膜样品具有最好的钝化效果.另外,通过计算Si/AlOx界面处的固定电荷密度和缺陷态密度,发现32 nm厚的AlOx薄膜样品具有最低的缺陷态密度.系统研究了单晶硅材料的表面钝化机制,给出了影响样品载流子寿命的根本来源.

关键词：氧化铝、原子层沉积、钝化、准稳态光电导

所属期刊栏目：37

分类号：O484.4;TP394.1(固体物理学)

资助基金：“863”计划项目2011AA050516;辽宁省博士启动项目20141022;中央高校基本科研业务费项目DUT14LK34

在线出版日期：2016-06-30（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：192-196