0.5μm工艺CMOS有源像素传感器的总剂量辐射效应

摘要：

采用60Co-γ射线对某国产0.5μm CMOS N阱工艺CMOS有源像素传感器(APS)的整体电路和像素单元结构进行了电离总剂量辐射效应研究,重点考察了器件的饱和输出信号、像素单元输出信号、暗信号等参数的变化规律.随着辐射剂量的增大,饱和输出信号逐渐减小且与像素单元饱和输出信号变化基本一致;暗信号随总剂量的增大而显著增大.研究结果表明,0.5 μm工艺CMOS APS电离总剂量辐射效应引起参数退化的主要原因是光敏二极管周围的整个LOCOS(Local oxidation of silicon)隔离氧化层产生了大量的辐射感生电荷.

关键词：电离总剂量辐射效应、CMOS有源像素传感器、饱和输出信号、像素单元结构、LOCOS隔离

所属期刊栏目：36

分类号：TP212.14;TN386.5(自动化技术及设备)

资助基金：国家自然科学基金11005152

在线出版日期：2015-05-20（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：242-248