低温原子层沉积氧化铝作为有机电致发光器件的封装薄膜
为了克服传统的原子层深沉积反应温度高于有机材料的玻璃化温度对有机电致发光器件性能产生破坏的缺点,使用低温原子层沉积的方法沉积了 Al2 O3薄膜,成功地实现了对 OLED 的薄膜封装。实验中为了抑制环境温度对 ALD 薄膜均匀性的影响,增加了每个反应周期的抽气时间,从而可以充分地排出反应副产物,抑制了空位的形成,使得薄膜具有较高的均匀性和致密性。微观形貌分析、钙测试以及寿命测试表明,通过增加 ALD 的 PGT,低温制备的薄膜与高温制备的薄膜的均匀性差别较小,且制备过程对 OLED 器件的光电性能无明显影响。低温制备的薄膜水汽透过率(WVTR)可以达到8.6×10-4 g/(m2·d),能够有效地提高有机电致发光器件的寿命。
原子层沉积、薄膜均匀、低温
TN383+.1;TN873.13(半导体技术)
科技部国际科技合作项目2014DFG12390;国家高技术研究发展计划2011AA03A110;国家重点基础研究发展计划2010CB327701,2013CB834802;国家自然科学基金61275024,61274002,61275033,61377206,41001302;吉林省科技发展计划20140101204JC,20130206020GX,20140520071JH;长春市科技发展计划13GH02
2014-09-23（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
共6页
1087-1092
