霍尔离子源辅助制备长波红外碳化锗增透膜

摘要：

为了提高锗基底的透过率和环境适应性,镀制了增透保护膜.应用电子枪蒸发加霍尔离子源辅助的方法沉积了碳化锗(Ge1-xCx)薄膜.通过固定霍尔离子源参数,控制沉积速率的工艺得到了不同光学常数的碳化锗薄膜.X射线衍射(XRD)测试表明,所制备的碳化锗薄膜在不同的沉积速率下均为无定形结构.采用傅立叶变换红外(FTIR)光谱仪测量了试片的透过率,使用包络法获得了相应工艺条件下的光学常数.在锗基底上双面镀制碳化锗增透膜后,长波红外7.5～11.5 μm波段的平均透过率Tave＞85％.经过环境实验之后的碳化锗膜层完好,证明碳化锗增透膜具有良好的环境适应性.

关键词：碳化锗、长波红外增透膜、离子辅助、霍尔离子源

所属期刊栏目：34

分类号：O484;TN304(固体物理学)

资助基金：国家自然科学基金60478035

在线出版日期：2013-08-27（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：319-323