透明导电ZnO薄膜的电化学制备及性能研究

摘要：

以修饰的ITO玻璃为衬底,以不同浓度Zn(NO3)2·6H2O作为电解质溶液,采用阴极恒流沉积法制备了不同纳米结构的ZnO薄膜.用X射线衍射(XRD)、场发射扫描电镜(FE-SEM)、四探针仪(RTS-8)、紫外-可见(UV-Vis)光谱仪、循环伏安等分别表征薄膜的晶相、形貌和厚度、方块电阻、紫外-可见光透过率和氧化还原电位.结果表明:低浓度溶液沉积得到的c轴取向1D ZnO纳米柱和高浓度溶液沉积得到的致密2D六方ZnO纳米片在可见光范围(400～900 nm)的透过率均可高达85％以上,方块电阻约为14.5 Ω/口.两种结构的氧化还原电位有显著区别,纳米柱的为-0.54 V(vs.SCE),而纳米片的为-0.72 V(vs.SCE),说明纳米片状的ZnO薄膜具有更为良好的化学稳定性.

关键词：ZnO薄膜、恒电流、修饰、透明电极

所属期刊栏目：34

分类号：O642(物理化学（理论化学）、化学物理学)

资助基金：国家自然科学基金50672066

在线出版日期：2013-04-03（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：218-224