射频磁控溅射法制备的Eu掺杂ZnO薄膜的结构及其发光性质
用射频磁控溅射法在石英衬底上制备了ZnO:Eu3+薄膜,通过X射线衍射仪、扫描电子显微镜和荧光光谱仪测试了薄膜结构、形貌以及发光性能,重点考察了溅射功率和退火工艺对其组织结构和发光性能的影响.结果表明:样品均呈现ZnO的六角纤锌矿结构,增大溅射功率有利于形成ZnO的c轴择优取向;增大溅射功率以及高温退火会使晶粒尺寸增大;观察到稀土元素内部4f壳层的电子跃迁以及从ZnO基质到Eu3+离子之间的能量传递现象,增大溅射功率以及780℃退火能提高ZnO:Eu3薄膜的发光特性.
ZnO:Eu3+、光致发光、磁控溅射
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O482.31;O484.1(固体物理学)
国家自然科学基金50771037;高等学校博士学科点专项科研基金200805620004
2012-03-05(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共5页
1004-1008