氧气流量对脉冲激光沉积ZnO薄膜的形貌及光学性质影响

摘要：

使用脉冲激光沉积(PLD)方法在石英(SiO2)和单晶Si(111)基底上制备了具有高c轴择优取向的ZnO薄膜.测试结果显示:在30～70 sccm氧气流量范围内,氧气流量50 sccm时制备的ZnO薄膜具有较好的结晶质量、较高的光学透过率(≥80%)、较高的氧含量(～40.71%)、较快的生长速率(～252 nm/h)和较好的发光特性:450～580 nm附近发射峰最弱,同时～378 nm附近的紫外发光峰最强,表明薄膜材料中含有较少的氧空位等缺陷.

关键词：氧气流量、脉冲激光沉积、ZnO薄膜

所属期刊栏目：31

分类号：O472.3;O482.31(半导体物理学)

资助基金：国家自然科学基金60976036, 10604041;广东省自然科学基金8151806001000009;深圳市产学研科技合作项目Y2005002;深圳市科技计划200604, 200706, ZYC200903250140A;深圳市南山区科技研发资金南科院2008012

在线出版日期：2010-05-31（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：239-242