LiF修饰阴极的双层有机电致发光器件的延时效应

摘要：

基于载流子的注入、传输和复合过程, 建立了双层有机发光器件的电致发光延时理论模型;讨论了电致发光延时随电压、注入势垒、内界面势垒、阳极区厚度及LiF缓冲层(BL)厚度的变化关系. 结果表明:(1)低电压下,EL延时由复合过程主导,而高电压下,输运过程起着更重要的作用;(2)当δ_e/δ_h＜2时,M/O界面属于欧姆接触,电流是空间电荷限制的,注入势垒的变化对复合时间t_(rec)影响较大,当δ_e/δ_h＞2时,M/O界面成为接触限制,注入势垒的变化对t_(rec)几乎没有影响;(3)当内界面势垒超过0.3 eV,H′ _h对t_(rec)的影响明显变弱,复合延迟时间基本上由电压和其它因素控制;(4)当电压较小时,随L_h/L的增大,t_(rec)增大;当电压超过某一值后,t_(rec)几乎不随L_h/L的变化而变化;(5)对于LiF/Ag阴极,在不同的偏压下, LiF的厚度在3.1 nm左右时的复合时间最短,对应的EL延迟时间也最短,这与实验中从电致发光效率的角度得出的LiF最佳厚度一致.

关键词：电致发光延时、注入势垒、内界面势垒、LiF修饰

所属期刊栏目：31

分类号：TN383.1;TN873.3(半导体技术)

资助基金：湖南省杰出青年科学基金03JJY1008;中国博士后科学基金2004035083;湖南省自然科学基金05JJ20034;中南大学科学基金0601059

在线出版日期：2010-04-06（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共8页

页码：17-24