膜层厚度对蓝宝石衬底上生长的ITO薄膜性质的影响

摘要：

采用磁控溅射的方法在蓝宝石衬底上制备了氧化铟锡(ITO)透明氧化物薄膜;研究了不同厚度薄膜的结构、光学和电学特性.经X射线衍射(XRD)测量,发现在蓝宝石衬底上生长的ITO薄膜呈现了较高的(222)择优取向;随着膜层厚度的增加,该衍射峰对应的2θ衍射角逐渐向大角度方向移动,同时该衍射峰的半峰全宽逐渐减小,平均晶粒尺寸增大.经光学透射光谱测量,发现随着膜层厚度的增加,光学透过率逐渐减小.膜层厚度为0.2 μm时,可见光透过率超过80%,当膜层厚度为0.8 μm时,可见光透过率下降到60%.电学测量结果表明,随着膜层厚度的增加,薄膜电阻率逐渐减小.膜层厚度为0.2 μm时,电阻率为9×10-4 Ω·cm, 膜层厚度为0.8 μm时,电阻率为5.5×10-4 Ω·cm.

关键词：氧化铟锡、磁控溅射、X射线衍射、光透过率、电阻

所属期刊栏目：30

分类号：O484.41;O484.42(固体物理学)

资助基金：吉林省科技厅青年科研基金20080170

在线出版日期：2009-12-15（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：712-716