场发射显示Ag膜电极的制备及其电性能

摘要：

场发射显示(FED)被认为是CRT的平板化,受到人们关注.作者采用直流磁控溅射法,在Al2O3过渡层上制备面心立方结构的Ag多晶薄膜.通过XRD、SEM、AFM测试分析发现,溅射功率分为两个区域,在溅射功率不高于2.8 kW时,沉积速率随着功率线性增大,得到Ag膜晶粒尺寸均一,薄膜电阻率逐步降低;溅射功率高于2.8 kW后,沉积速率没有显著增大,出现较多的大晶粒,电阻率升高,并且从理论上给出了解释.综合来看,溅射功率在2.8 kW所制备的Ag膜微观结构质量达到最佳,电阻率也达到最小值.

关键词：银薄膜、磁控溅射功率、微观结构、电阻率

所属期刊栏目：30

分类号：O484.1;O484.42(固体物理学)

资助基金：国家"863"计划平板显示重大专项2008AA03A313;福建省重大科技专项2004HZ01-2;福州大学博士基金826369

在线出版日期：2009-12-15（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：706-711