原子力显微镜在PLD法制备ZnO薄膜表征中的应用

摘要：

利用脉冲激光沉积(PLD)法在氧压为16 Pa、衬底温度为400～700 ℃时,在单晶Si(100) 衬底上制备ZnO薄膜,并通过原子力显微镜(AFM)、X射线衍射(XRD)谱和光致发光谱对制得的薄膜样品进行表面形貌、结构特性和发光性质研究.其中通过原子力显微镜对样品的二维、三维以及剖面线图进行了分析.结果表明衬底温度700 ℃时得到的薄膜样品表面较均匀致密,晶粒生长较充分,结晶质量较高,相对发光强度高.控制氧压为5.7 Pa,在衬底温度为600 ℃,沉积时间分别为10,20,45 min制备ZnO薄膜样品;利用原子力显微镜对样品进行表面形貌观察,得知只有沉积时间足够长才能使薄膜表面晶粒充分生长.

关键词：ZnO薄膜、脉冲激光沉积、原子力显微镜、X射线衍射、光致发光

所属期刊栏目：30

分类号：O482.31;TN304.055(固体物理学)

资助基金：教育部留学归国人员实验室建设项目资助

在线出版日期：2009-05-19（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：63-68