阳极/有机层界面LiF层在OLED中的空穴缓冲作用
使用真空热蒸发镀膜法,在OLED层状结构中引入不同厚度的LiF作阳极修饰层,制备了结构为ITO/LiF/TPD/Alq3/Al的器件.LiF超薄层的引入较好地修饰了ITO表面,减少了阳极和有机层界面缺陷态的形成,增强了器件的稳定性.实验结果表明:LiF层有效地阻挡空穴注入,增强载流子注入平衡,提高了器件的亮度和效率,含有1 nm厚LiF空穴缓冲层器件的性能最好,效率较不含缓冲层器件提高了近1.5倍.
有机发光二极管、LiF修饰层、空穴缓冲
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TN383.1;TN873.3(半导体技术)
广东省自然科学基金资助项目06025173
2009-05-19（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
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