退火对ZnO薄膜光学特性的影响

摘要：

用射频磁控溅射法在蓝宝石衬底上制备出ZnO薄膜,通过X射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)和光致发光(PL)谱等研究了退火温度对ZnO薄膜结构和光学性质的影响.测量结果显示,所制备的ZnO薄膜为六角纤锌矿结构,具有沿c轴的择优取向;随着退火温度的升高,(002)XRD峰强度和平均晶粒尺寸增大,(002)XRD峰半高宽(FWHM)减小,光致发光紫外峰强度增强.结果证明,用射频磁控溅射法通过适当控制退火温度可得到高质量ZnO薄膜.

关键词：ZnO薄膜、射频磁控溅射、退火

所属期刊栏目：29

分类号：O482.31;TN304.2(固体物理学)

资助基金：国家基础科学人才培养基金J0730318;山东省自然科学基金Y2005917

在线出版日期：2008-08-26（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：451-454