射频等离子体辅助MBE生长GaN及Mg掺杂的光致发光

摘要：

采用射频等离子体辅助分子束外延(RF plasma-assisted MBE)系统生长非故意掺杂GaN和p型GaN,并且通过室温和低温光致发光(PL)谱测试研究了材料的发光特性及与杂质态的关系,对于GaN外延层出现的黄带发光进行分析.结果表明,富Ga条件下生长的GaN材料特性要优于富N生长的材料;非故意掺杂的富Ga样品中出现的黄带发光(YL)与GaN中生成能最低的氮空位(VN)缺陷有关;不同的Mg掺杂浓度对样品的PL特性有较大的影响;结合Hall效应测量结果,认为在Mg重掺杂的样品中出现的黄带发光,与GaN的自补偿效应以及重掺杂导致的晶体质量下降有关.

关键词：分子束外延、Ⅲ/Ⅴ比、PL谱、黄带发光

所属期刊栏目：27

分类号：O472.3;O482.31(半导体物理学)

资助基金：中-法合作项目CNRS/ASC200518152;国家高技术研究发展计划863计划2002AA305304;上海市自然科学基金05ZR14139;国家自然科学基金055207043

在线出版日期：2007-01-17（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：971-975