10.3321/j.issn:1000-7032.2006.01.024
沉积工艺参数对碳纳米管薄膜场发射性能的影响
利用微波等离子体化学气相沉积(MWPCVD)方法,在不锈钢衬底上直接沉积碳纳米管膜.通过SEM、拉曼光谱和XRD表征,讨论了制备温度和甲烷浓度对碳纳米管膜场发射的影响.结果表明:不同条件下制备的碳纳米管膜的场发射性能有很大差异,保持氢气的流量(100 sccm)、生长时间(10 min)、反应室压力不变,当甲烷流量为8 sccm、温度为700~800 ℃时,场发射性能最好,开启场强仅为0.8 V/μm,发射点分布密集、均匀.
碳纳米管、微波等离子体化学气相沉积、场发射、拉曼光谱
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O462.4;O484.4(真空电子学(电子物理学))
河南省科技攻关项目0324220160
2006-04-13(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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