用AFM和XPS研究LiBq4/ITO的表面和界面

摘要：

用原子力显微镜(AFM)研究了LiBq4/ITO样品表面形貌,结果表明LiBq4层中存在很多裂缝和空隙.用X射线光电子谱(XPS)研究样品表面和界面的电子状态,发现C1s谱在高结合能端出现氧化特征的肩峰,表明真空蒸发沉积的LiBq4分子存在明显的氧化现象;对B1s谱的分析发现,界面处B原子的相对值远低于理论值,说明界面处存在B原子离解,导致了LiBq4分子的更高氧化态;从C1s谱发现,表面污染C的比例很高,而界面处大为下降,原因是表面吸附了气体,从而证实了LiBq4表面存在大量空隙和裂缝.定量研究发现,界面处存在N原子与In、Sn原子的相互作用,这将影响LiBq4的发光颜色.

关键词：LiBq4/ITO、表面、界面、原子力显微镜、X射线光电子谱

所属期刊栏目：26

分类号：TN383.1;TN873.3(半导体技术)

资助基金：国家自然科学基金60276026;甘肃省自然科学基金ZS031-A25-012-G

在线出版日期：2005-08-04（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：337-343