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10.3321/j.issn:1000-7032.2004.06.025

刻线镍膜上沉积的碳纳米管场发射特性

引用
利用微波等离子体化学气相沉积(MWPCVD)方法,在刻线的镍膜上沉积碳纳米管膜.通过SEM和拉曼光谱表征,讨论了催化剂厚度、制备温度、反应时间以及甲烷浓度对碳纳米管场发射的影响.结果表明:不同条件下制备的碳纳米管的场发射性能有很大差异,保持氢气的流量(100 sccm)不变,当甲烷流量为5 sccm、生长时间为5 min、催化剂膜厚为150 nm、温度为700~800℃时,场发射性能最好,开启场强为1.3 V/μm,最大发射电流达到6.8 mA/cm2.

碳纳米管、微波等离子体化学气相沉积、场发射、拉曼光谱

25

O484.4(固体物理学)

河南省科技攻关项目0324220160

2005-01-27(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共5页

743-747

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1000-7032

22-1116/O4

25

2004,25(6)

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