热退火对ZnO薄膜表面形貌与椭偏特性的影响

摘要：

利用原子力显微镜(AFM)和椭偏仪对溅射制备的硅基Zn0薄膜的热退火表面形貌与椭偏特性进行了研究.结果发现:未退火或低温退火(≤850℃)薄膜的形貌呈现较弱的各向异性,晶粒尺寸大小较为均匀,尺寸约为50 nm.当经高温退火后,ZnO薄膜的晶粒尺寸明显增大,同时伴随晶粒尺寸分布非均匀化,较大的尺寸可达400nm,而较小的尺寸仅为50 nm.此外,椭偏测量表明:椭偏参数在不同的退火温区的变化呈现明显差别;当退火温度高于850℃时,薄膜的结构有明显的变化.

关键词：氧化锌薄膜材料、热退火、原子力显微镜、椭偏测量

所属期刊栏目：25

分类号：O472.3(半导体物理学)

资助基金：国家自然科学基金90201038

在线出版日期：2004-06-11（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：151-155