射频磁控溅射ZnO薄膜的结构和光学特性

摘要：

采用射频(RF)反应磁控溅射法在n-Si(001)衬底上外延生长ZnO薄膜.XRD谱测量显示出较强的(002)衍射峰,表明ZnO薄膜为c轴择优取向生长的.室温PL谱测量观察到了较强的紫外光发射和深能级发射.

关键词：ZnO薄膜、RF磁控溅射、光荧光谱

所属期刊栏目：24

分类号：O482.31(固体物理学)

资助基金：国家高技术研究发展计划863计划2001AA311130

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：73-75