10.3321/j.issn:1000-7032.2002.06.016
复合外场中磁光薄膜(BiTm)3(FeGa)5O12缺陷周围磁畴壁的形貌特征
用自组装系统记录了外场分别为匀速率增加的直流磁场、低频交变磁场和它们同时存在时,磁光薄膜(BiTm)3(FeGa)5O12一种缺陷周围磁畴壁的形貌特征.分析表明:三种不同取向磁畴壁的交界处往往是磁光薄膜的缺陷所在处;在低频交变场下,该缺陷区域出现无畴条块或区域,在直流场中无此现象.在低频交变场以及复合外场下该缺陷周围磁畴壁形成椭圆形图案.
磁光薄膜、缺陷、畴壁形貌、复合外场
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O472.5(半导体物理学)
2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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