TurboDisc MOCVD设备的理论和应用:流体动力学方法

摘要：

报道了EMCORE公司的旋转盘反应器,或TurboDisc反应器,这是一种带有旋转盘的立式反应器.衬底片放置在高速旋转的盘上并被加热到合适的生长温度.反应物在初始阶段因高速旋转盘的牵引力被竖直向下地泵入,然后偏斜形成一个与衬底片托盘平行的流动区域.在”GaNzilla”,EMCORE公司的一种新型325mm的GaN生产反应器中外延生长了GaN材料.为在蓝宝石衬底上得到高质量的GaN,采用高的生长压力和高旋转速度,可以在这种旋转盘反应器中实现必要的生长条件.还对p-GaN,InGaN,InGaN多量子阱,以及LED器件进行了类似的实验,都能获得最佳的生长条件.

关键词：Ⅲ-Ⅴ族薄膜材料、MOCVD理论、流体动力学方法、立式旋转盘反应器

所属期刊栏目：22

分类号：TN312.8(半导体技术)

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：99-102