10.3321/j.issn:1000-7032.2001.z1.008
在GaN生长初期形貌发展的观察
报道了对GaN在生长初期形貌发展的观察和形貌的高度分布演化.形貌观察发现GaN外延层由分离的岛转化为连续的膜,形貌的发展显示GaN经历了横向生长的阶段.利用原子力显微镜有数字化记录的特点,从形貌的观察中也得到了外延层高度分布,发现高度分布可用单峰或多峰高斯分布拟合.通过与形貌特征的对比,发现宽而且不对称的分布对应着岛状的外延层形貌,可以用多峰高斯分布拟和;窄而且对称的分布则对应着比较连续的膜,可以用单峰高斯分布拟和.
形貌发展、GaN外延层
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TN312.8(半导体技术)
国家自然科学基金60086001,69906002;国家重点基础研究发展计划973计划G20000683
2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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