10.3321/j.issn:1000-7032.2001.z1.001
用MOVPE方法外延生长Si掺杂的立方相GaN
用MOVPE方法采取一种两步生长过程生长了未掺杂和Si掺杂的GaN.在生长了一个20nm厚的缓冲层后,外延生长了1μm厚的立方GaN外延层.利用二次离子质谱测定了掺杂的程度.并用X射线衍射和光致发光测量来表征了未掺杂和Si掺杂GaN的结构和光学质量.
Si掺杂GaN、MOVPE、光致发光特性
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TN312.8(半导体技术)
2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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