10.3321/j.issn:1000-7032.2001.04.006
SiO2/Ge:SiO2/SiO2夹层结构红外光发射的起源
我们借助傅立叶变换红外光谱(FT-IR)以及光致激发谱(PLE),研究了SiO2/Ge:SiO2/SiO2夹层结构红外光发射的起源.谱分析表明,该红外光发射并非起源于纳米锗、硅的量子限制效应以及锗、硅的中性氧空位,而与锗的氧化物紧密相关.PLE的结果证实它们来源于GeO色心Tn′→So的光学跃迁,给出的GeO电子态模型描述了载流子激发和复合的过程.
光荧光、磁控溅射、红外光发射、CeO色心
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O484.41(固体物理学)
国家自然科学基金59832100,59772038
2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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