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10.3321/j.issn:1000-7032.2001.02.006

MOCVD方法生长的氧化锌薄膜及其发光特性

引用
近年来,随着近紫外光发射氧化锌薄膜研究的进展,许多先进的薄膜生长手段被广泛采用。本文探索了用MOCVD方法在硅衬底上生长氧化锌薄膜的方法,试验了用几种不同的有机金属源生长ZnO薄膜;研究了源材料及生长压力和温度对薄膜生长的影响;观察了样品的室温光致发光光谱。通过与溅射方法生长的ZnO薄膜的比较,提出了影响材料结构和发光特性的可能原因。

氧化锌、薄膜制备、结构特性、光致发光

22

O482.3(固体物理学)

国家自然科学基金59872037;安徽省自然科学基金98641550;科技部科研项目国科基字[1998]010号

2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共6页

119-124

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1000-7032

22-1116/O4

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2001,22(2)

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