Y1.95-xGdxSiO5:Eu0.05的真空紫外光谱
万方数据知识服务平台
应用市场
我的应用
会员HOT
万方期刊
×

点击收藏,不怕下次找不到~

@万方数据
会员HOT

期刊专题

10.3321/j.issn:1000-7032.2000.02.013

Y1.95-xGdxSiO5:Eu0.05的真空紫外光谱

引用
利用高温固相法合成了Y1.95-xGdxSiO5:Eu0.05(x=0.6mol%)荧光体.结构测定表明所合成的荧光体为单斜晶系的X2型Y2SiO5相,空间群为B2/b.真空紫外光谱表明:随着Gd3+含量的增加,在192nm附近,出现了Gd3+的激发峰,且此峰的强度随着Gd3+含量的增加而增大;同时位于150~185nm之间的基质吸收带的强度也增大;而位于200~300nm之间的Eu的电荷迁移带的强度却随着Gd3+含量的增加而降低.

Y1.95-xGdxSiO5:Eu0.05、真空紫外光谱、基质吸收带

21

O482.31(固体物理学)

2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共5页

145-149

相关文献
评论
暂无封面信息
查看本期封面目录

发光学报

1000-7032

22-1116/O4

21

2000,21(2)

相关作者
相关机构

专业内容知识聚合服务平台

国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”

国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304

©天津万方数据有限公司 津ICP备20003920号-1

信息网络传播视听节目许可证 许可证号:0108284

网络出版服务许可证:(总)网出证(京)字096号

违法和不良信息举报电话:4000115888    举报邮箱:problem@wanfangdata.com.cn

举报专区:https://www.12377.cn/

客服邮箱:op@wanfangdata.com.cn