多孔硅的表面碳膜钝化

摘要：

报道对多孔硅(PS)进行碳膜(CF)钝化处理的结果.红外吸收光谱表明,经钝化处理样品的表面由Si-C、Si-N和Si-O键所覆盖;荧光光谱表明,经钝化处理的样品较未处理的样品发光强度提高4～4.5倍,且发光峰位明显蓝移;存放实验显示,经钝化处理的样品发光强度稳定、发光峰位不变.这些结果表明,正丁胺可以在多孔硅表面形成优良的钝化碳膜,是一种十分有效的多孔硅后处理途径.

关键词：多孔硅、碳膜、表面钝化、荧光光谱

所属期刊栏目：21

分类号：O472.1(半导体物理学)

资助基金：浙江省湖州市自然科学基金98JJY2047

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：104-108