10.3321/j.issn:1000-7032.2000.01.007
MOCVD生长的GaN单晶膜的蓝带发光研究
对实验室用MOCVD方法生长的未掺杂GaN单晶膜的发光性能进行了研究.结果表明: 在室温时未掺杂GaN单晶出现的能量为2.9eV左右蓝带发光与补偿度有较强的依赖关系.高补偿GaN的蓝带发射强, 低补偿GaN的蓝带发射弱.对蓝带发光机理进行了探讨, 认为蓝带为导带电子跃迁至受主能级的发光(eA 发光).观察到降低GaN补偿度能提高GaN带边发射强度.
GaN、MOCVD、光致发光、补偿度
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O472.3(半导体物理学)
国家高技术研究发展计划863计划715-001-0012;国家自然科学基金69676019;江西省跨世纪人才培养基金
2007-03-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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