掩膜版线状mura的控制方法

摘要：

在分析掩膜版出现线状mura主要是由于图形关键尺寸(critical dimension,CD)精度周期性波动的基础上,深入分析了光刻设备的曝光原理以及掩膜版光刻过程,得出导致掩膜版图形CD精度周期波动的因素,主要是扫描带(scanstrip)与扫描带之间重叠区域(overlap)的能量与扫描带内的能量差异所致.基于此,给出了几种可以减弱掩膜版线状mura现象的方法,并深入分析了每种方法适用的情景及限制条件,从而可以根据具体的光刻图形,来选取合适的线状mura控制方法,以期在最大程度上减少掩膜版线状mura的问题.

关键词：掩膜版、线状mura、mura控制、关键尺寸均匀性

分类号：TN873+.93(无线电设备、电信设备)

在线出版日期：2022-10-21（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：139-142