浅谈平面高压VDMOS工艺平台发展
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10.3969/j.issn.1003-0107.2014.03.001

浅谈平面高压VDMOS工艺平台发展

引用
该文从国内生产线的实际出发,简单介绍了目前国内主流功率VDMOS器件生产厂家所采用的平面高压VDMOS工艺平台,初步总结了当前各种成熟工艺平台具有的特点与优点,希望该文有助于国内同行之间相互借鉴与提高,目的是促进民族工业不断向前发展。

VDMOS工艺平台、元胞、主结、终端结构、分压环、场板、空间电荷区、PN结、EAS

TN432(微电子学、集成电路(IC))

2014-04-15(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共9页

1-8,13

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1003-0107

44-1038/TN

2014,(3)

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