单粒子辐射导致的VDMOS体二极管反向I-V曲线蠕变现象研究

摘要：

单粒子辐射后,VDMOS器件体二极管反向I-V曲线发生蠕变的特殊失效现象被首次观察到.室温下,当VDMOS的栅极浮空,漏极电压加到一定值时(远低于VDMOS击穿电压),漏电流增大,体二极管I-V曲线开始漂移并最终稳定,形成电阻型曲线.通过测试VDMOS器件及其体二极管辐射后的电参数,分析漏电流的产生原因,研究体二极管反向I-V曲线发生蠕变现象的失效机制,并提出基于界面态、中性空穴陷阱,包括空穴激发、多级空穴俘获和能带隧穿机制的空穴迁移模型.基于该模型给出了单粒子辐射导致的VDMOS体二极管漏电流的表达式.此外,通过温度实验和漏极应力实验来验证空穴迁移模型.

关键词：蠕变、体二极管、反向I-V曲线、单粒子辐射、中性空穴陷阱、空穴迁移

所属期刊栏目：41

分类号：TN306;TN386.1(半导体技术)

在线出版日期：2022-12-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：1053-1059