10.14106/j.cnki.1001-2028.2022.0253
先进电子铝箔微观腐蚀形貌的对比分析
针对国产高压腐蚀箔容量偏低、一致性差以及各项性能参数离散性大等问题,开展了先进电子铝箔微观腐蚀形貌的对比研究.首先通过电解抛光处理,使高压腐蚀箔显示出真实有效的腐蚀形貌.其次借助计算机图像模拟分析程序,对国内外不同厂家高压腐蚀箔形貌的扫描电子显微镜(SEM)照片进行测试分析,得到相应的腐蚀蚀孔特征参数数据库.通过参数对比可以得到B样品(日本KDK公司生产)的综合性能最佳:隧道孔深50μm,发孔密度较小,单孔平均尺寸1.17μm,折弯55次,520 V化成电压下阳极箔比容量最高达到0.877μF/cm2.本文通过对比不同厂家高压腐蚀箔的微观形貌,找出形貌特征参数与性能之间的关系,为深入研究高性能铝箔蚀孔生长控制技术提供了参考依据.
铝电解电容器、高压腐蚀箔、图像分析、微观形貌
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TM535(电器)
新疆维吾尔自治区自然科学基金;新疆工程学院产教融合横向课题;新疆维吾尔自治区科协青年人才托举工程项目
2022-10-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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