磁控溅射制备高循环稳定性的氟氧化铜薄膜研究

摘要：

以二水氟化铜(CuF2·2H2 O)为靶材,采用磁控溅射薄膜沉积工艺,制备了具有高循环稳定性的氟氧化铜薄膜.研究了工作气压对薄膜形貌、 厚度及成分的影响.X射线光电子能谱和循环伏安分析结果表明薄膜内部存在Cu—O键和Cu—F键,以及单质铜.0.55 Pa制备的氟氧化铜薄膜主要成分为2.4Cu-1.25CuO-0.5CuF2,50周循环可逆充放电比容量约为340 mAh/g.结果表明,磁控溅射方式能有效降低OH-的比例,实现氟氧化物电极的制备,提高了转化反应电极材料在高比能锂电池中的应用潜力.

关键词：二水氟化铜(CuF2·2H2O)、氟氧化铜、磁控溅射、循环稳定性

所属期刊栏目：39

分类号：O646.54(物理化学（理论化学）、化学物理学)

资助基金：国家自然科学基金 ;国家重点研发计划

在线出版日期：2020-08-04（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：28-34