电解液中金属离子对高压光箔腐蚀行为影响的研究
万方数据知识服务平台
应用市场
我的应用
会员HOT
万方期刊
×

点击收藏,不怕下次找不到~

@万方数据
会员HOT

期刊专题

10.14106/j.cnki.1001-2028.2019.08.013

电解液中金属离子对高压光箔腐蚀行为影响的研究

引用
采用极化曲线和计时电位曲线考察了盐酸-硫酸电解液中金属离子对高压光箔腐蚀电化学行为影响,利用扫描电子显微镜(SEM)分析了金属离子对光箔腐蚀形貌和性能的影响.结果表明,电解液中单独添加Fe3+或Cu2+后,自腐蚀电位都正移,由于强的局部微电池效应,Cu2+的影响相对Fe3+更显著;单独添加Fe3+后,击穿电位下降,而击穿电位随Cu2+添加量的增加先增加后降低;Fe3+对蚀孔形貌的影响与其浓度有关,峰值孔径随Fe3+添加量的增加先增大后减小;而Cu2+对峰值孔径影响较小,但会减少蚀孔密度;另外,添加少量Fe3+有利于提升阳极箔520 V比容,从0.816×10-6 F·cm-2增加到0.828×10-6 F·cm-2,而添加Cu2+会降低阳极箔性能.

铝电解电容器、高压阳极箔、电化学腐蚀、极化曲线、金属离子、比电容

38

TM525(电器)

2019-08-29(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共6页

76-81

相关文献
评论
暂无封面信息
查看本期封面目录

电子元件与材料

1001-2028

51-1241/TN

38

2019,38(8)

相关作者
相关机构

专业内容知识聚合服务平台

国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”

国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304

©天津万方数据有限公司 津ICP备20003920号-1

信息网络传播视听节目许可证 许可证号:0108284

网络出版服务许可证:(总)网出证(京)字096号

违法和不良信息举报电话:4000115888    举报邮箱:problem@wanfangdata.com.cn

举报专区:https://www.12377.cn/

客服邮箱:op@wanfangdata.com.cn