微立体光刻压电陶瓷的形变预测与补偿研究

摘要：

现有微立体光刻技术制备的压电陶瓷普遍存在密度小、 性能低、 几何精度难以精确控制等问题.本文通过设计陶瓷浆料各组分之间的成分比例,控制光固化参数和热处理工艺,建立几何形变的数学预测和补偿模型,制备了致密性高、 形状复杂的压电陶瓷,提高了压电陶瓷在光固化、 脱脂、 烧结过程中的几何精度.实验表明:当压电陶瓷(PZT-5H)浆料质量分数为75％时,坯体烧结后的密度为7.35 g/cm3;在2 kV/mm的极化电压下,压电常数d 33为600 pC/N,相对介电常数为2875,性能得到提升;经过几何形变补偿,压电陶瓷的几何精度可以提高80％.

关键词：微立体光刻、压电陶瓷、几何精度、形变补偿、压电性能

所属期刊栏目：38

分类号：TM282(电工材料)

资助基金：国家自然科学基金面上项目51675278;机械结构力学及控制国家重点实验室开放课题MCMS-0317G01

在线出版日期：2019-05-17（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：77-82