能量密度和重复频率对PLD法制备ZnS薄膜性质的影响

摘要：

利用脉冲激光沉积法在玻璃基片上、以不同的能量密度和重复频率制备了一系列ZnS薄膜.利用X射线衍射、X射线能量色散谱、紫外-可见-近红外分光光度计,对ZnS薄膜的晶体结构、化学组分、光学特性等进行表征.结果表明:所制备ZnS薄膜为富硫贫锌,结晶质量良好,为(002)晶面择优取向生长.能量密度为7.5 J/cm2、重复频率为2Hz是生长高质量ZnS薄膜的条件,其所制备的ZnS薄膜为纤锌矿结构,结晶程度最高,择优取向度最高(189.2),Zn/S摩尔比值接近化学计量比,堆积密度最大(0.967),可见光透过率高,禁带宽度为3.55 eV.

关键词：ZnS薄膜、脉冲激光沉积、能量密度、重复频率、择优取向、透过率

所属期刊栏目：35

分类号：TN304;O484(半导体技术)

资助基金：国家自然科学基金资助项目51272061

在线出版日期：2016-10-14（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：27-32