10.14106/j.cnki.1001-2028.2016.07.010
衬底温度对CuAlO2薄膜的结构与光学性能的影响
通过磁控溅射的方法,在不同温度的石英衬底上制备了 CuAlO2薄膜,研究经过退火处理后, CuAlO2薄膜的表面形貌、物相结构以及光学性能。实验结果表明:随着衬底温度的增加,薄膜的晶粒逐渐形成和长大,表面组织越来越均匀致密,透光性也随之增强。通过综合比较,可发现:当衬底温度为400℃时,薄膜的整体性能达到最优,XRD谱中的(101)衍射峰最强,晶粒大小均匀,可见光透射率为76.6%,光学带隙宽度为3.69 eV。
CuAlO2薄膜、磁控溅射、衬底温度、透光性、禁带宽度、表面形貌
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TN304(半导体技术)
国家自然科学基金资助项目61504029
2016-07-18(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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