NiO薄膜的脉冲激光沉积及其结构和光学特性研究

摘要：

利用脉冲激光沉积法在ITO玻璃衬底上制备了NiO薄膜,利用XRD、AFM对样品的晶体结构和表面形貌进行了表征,并对其透射光谱进行了测试,研究了衬底温度及脉冲激光能量对所制NiO薄膜的结构、形貌和光学特性的影响.结果表明:在脉冲激光能量为180mJ、衬底温度为600～700℃条件下所制备的样品为沿(111)晶面择优取向生长的多晶NiO薄膜,薄膜结晶质量良好,表面颗粒排列均匀,可见光透射率较高,禁带宽度为3.40～3.47eV.

关键词：NiO、多晶薄膜、宽禁带半导体、脉冲激光沉积、透射率、择优取向

所属期刊栏目：32

分类号：TN304.2;O484(半导体技术)

资助基金：安徽省自然科学基金资助项目11040606M63

在线出版日期：2016-06-22（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：22-25