LiNbO3/ZnO:Al集成结构的外延生长及电性能研究

摘要：

采用脉冲激光沉积(PLD)法在蓝宝石衬底上先后外延生长了ZnO∶Al(ZAO)和LiNbO3(LN)薄膜.通过X射线衍射分析(XRD)可知二者之间的外延关系为:LN (001)//ZAO(001)、LN[110]//ZAO[110]、LN[100]//ZAO[120].制备了Au/LN/ZAO和ZAO/LN/ZAO两种电容器结构,对其进行了电流-电压(J-E)测试和铁电(P-E)分析,结果表明:LN/ZAO集成结构具有整流作用,ZAO/LN/ZAO结构表现出较好的绝缘性能,所制备的LN薄膜在室温下的剩余极化强度(Pr)约为1×10-6 C/cm2,温度的升高能够促进电畴的翻转,使Pr增加为3×10-6C/cm2.

关键词：脉冲激光沉积、LiNbO3、ZnO∶Al、外延薄膜、集成结构、J-E、P-E

所属期刊栏目：32

分类号：O484.1;O484.4(固体物理学)

资助基金：国家自然科学基金资助项目50932002

在线出版日期：2016-06-22（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：9-12