10.3969/j.issn.1001-2028.2011.06.009
金和铂掺杂单晶硅制备NTCR的研究
采用开管涂源法,对p25为7Ω·cm的n型单晶硅进行了Au和Pt双重掺杂,制备了低阻高B型NTCR.研究了扩散时间和扩散温度对样品参数的影响,并进行了相关的测试和分析.结果表明:扩散温度θ=1200℃、扩散时间t≥2h时,导电类型反型为P型,此时B25/50值不再随扩散时间明显变化,而是稳定在4 000K左右,P25恒定在(2~3)×103Ω·cm.
NTC热敏电阻、单晶硅、金、铂、深能级杂质
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TN304(半导体技术)
新疆维吾尔自治区自然科学基金资助项目2010211B24
2011-08-23(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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