衬底温度对PLD法制备的ZnO:Ga薄膜结构和性能的影响

摘要：

利用脉冲激光沉积法在石英衬底上制备了镓掺杂氧化锌(ZnO:Ga)透明导电薄膜,研究了衬底温度对薄膜的结构、表面形貌和光电性能的影响.研究表明:制备的ZnO:Ga薄膜是具有六角纤锌矿结构的多晶薄膜.随着衬底温度的增加,衍射峰明显增强,晶粒尺寸增大.当衬底温度为450℃时,薄膜的最低电阻率为8.5×10<'-4>Ω·cm,在可见光区平均光透过率达到87%以上.

关键词：脉冲激光沉积、ZnO:Ga薄膜、衬底温度、光电性能

所属期刊栏目：30

分类号：O484.4(固体物理学)

资助基金：江苏省科技厅工业支撑项目资助BE2009106

在线出版日期：2011-09-05（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：23-25,34