磁控溅射法制备Ag/FePt/C/FePt薄膜的结构和磁性能

摘要：

采用磁控溅射法,在自然氧化的Si(001)基片上沉积了Ag/FePt/C/FePt纳米薄膜,并分别在400,450,500,600℃下对薄膜样品进行了1h的退火热处理.利用X射线衍射仪和振动样品磁强计,对薄膜样品的结构和磁性进行了分析.结果表明,当热处理温度为450℃时,Ag/FePt/C/FePt薄膜中已形成了具有有序面心四方结构的L10-FePt.随着热处理温度的升高,薄膜样品的有序化程度提高,矫顽力Hc增强,晶粒尺寸变大.当热处理温度为600℃时,薄膜样品的平行膜面Hc为905.8 kA·m-1,晶粒尺寸为23nm.

关键词：磁控溅射法、FePt、结构、磁性能

所属期刊栏目：29

分类号：O482.5(固体物理学)

资助基金：国家自然科学基金资助项目2091055;教育部科技研究重点项目208178

在线出版日期：2010-10-13（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：48-50